薄膜衬底的清洗很重要，清洗是否洁净直接影响后期样品成膜的质量，因而衬底清洗一点不能大意。实验室用的较多的一般有两种衬底，一种为Ito玻璃导电衬底（大多数都用在光伏研讨，其通明，一面导电，经过万用电表测验，在导电的一面进行旋涂成膜，见后图），一种为单晶Si衬底（大多数都用在FET类的研讨，能够在薄膜外表的同一面两头镀电极进行有关测验）。新买衬底主要按以下流程清洗：
3、设置转速和悬涂时刻。（一般用右边十分快速地旋转的设置较多），悬涂的速度和时刻与样品浓度与溶液粘度相关（一般6000转，较稀溶液用2000-3000转，悬涂一般都大于30秒）。设置好后按Start，开端悬涂。
4、悬涂结束，按Vacuum按钮，关泵。将样品从样品座取下（样品放置均用洁净的镊子）。
5、悬涂好的样品平放于烤胶机上。烤胶机为一热台，设置温度Biblioteka Baidu样品烤干溶剂彻底蒸发即可。
1、顺次分别用甲苯、丙酮、乙醇、去离子水超声清洗20分钟，清洗温度（30-40度）。清洗结束的衬底浸泡于无水乙醇中。
2、Ito玻璃导电衬底的进一步清洗：氨水：双氧水：纯净水份额为1：1：5，该溶液放于外表皿将需求清洗的衬底彻底浸泡，外表皿用盖玻片掩盖。将其置于烤胶机上或80度热台上煮至不再冒气泡方位。煮时不能离人。
2、将模板掩盖的资料固定在离子溅射仪的样品座上（样品座与金靶间隔约5厘米）后，将离子溅射仪安装好。
3、开油泵，封闭针阀，抽真空至线、需运用衬底悬涂成膜时，将无水乙醇中的衬底取出用无尘布擦净即可。
主要是寻觅适宜的溶剂将需求成膜的样品溶解。一般悬涂成膜比较抱负的溶剂是DMF，也即溶剂极性较大粘度较高为宜。在悬涂前，需求寻觅一个适宜的溶剂将样品溶解。可经过屡次测验寻觅适宜的溶剂：将约10毫克样品用不同的200微升溶剂溶解，寻觅一个适宜的溶剂。
Si衬底的进一步清洗：浓硫酸：双氧水份额为3：1，溶液放于外表皿将需求清洗的衬底彻底浸泡，外表皿用盖玻片掩盖。将其置于烤胶机上或80度热台上煮至不再冒气泡方位。煮时不能离人。一起，该操作要当心操作，从配溶液起反响就比较剧烈。
3、待以上煮泡溶液不冒泡时，将外表皿从热台取下冷却。衬底用去离子水清洗后存于无水乙醇中浸泡待用。
1、在将有样品的衬底放在匀胶机进行悬涂前，放置空白衬底于匀胶机样品座上，留意样品座经过中心的气孔将衬底吸牢，勿将溶液漏入气孔导致机器损坏。用移液枪将样品溶液均匀涂在衬底上。（样品座前期处理：将Paffiline用双面胶层叠六层后粘于样品座，用烧热的针将气孔戳好即可）
2、开泵，按power键开匀胶机，按匀胶机上的Vacuum按钮，将样品吸住吸牢。
