金融界2025年5月1日音讯，国家知识产权局信息数据显现，京东方科技集团股份有限公司请求一项名为“薄膜晶体管、显现基板及薄膜晶体管制备办法”的专利，公开号CN119894070A，请求日期为2025年1月。
专利摘要显现，本请求施行例供给了一种薄膜晶体管、显现基板及薄膜晶体管制备办法，薄膜晶体管包含：衬底、榜首栅极结构、缓冲层、沟道结构、绝缘层、第二栅极结构、介质层、榜首源漏极结构及第二源漏极结构；榜首栅极结构设置在缓冲层内，沟道结构设置在绝缘层内，第二栅极结构设置在介质层内，榜首源漏极结构设置在介质层远离衬底的一侧，且榜首源漏极结构经过过孔与沟道结构及所述榜首栅极结构电衔接，第二源漏极结构设置在介质层远离衬底的一侧，且第二源漏极结构经过过孔与沟道结构电衔接；榜首栅极结构包含榜首部分及第二部分，榜首部分与第二部分串联，榜首部分与第二部分间隔沟道结构的间隔不同。本请求施行例可提高氧化物薄膜晶体管的稳定性。
天眼查资料显现，京东方科技集团股份有限公司，成立于1993年，坐落北京市，是一家以从事计算机、通讯和其他电子设备制造业为主的企业。企业注册资本3765252.9195万人民币。经过天眼查大数据分析，京东方科技集团股份有限公司共对外出资了69家企业，参加招投标项目237次，产业线条，此外企业还具有行政许可45个。
